| 发明名称 | 光学元件，包括该光学元件的光刻装置以及设备制造方法 | ||
| 摘要 | 一种光学元件，包括具有至少一个其上布置了一材料层的表面的基板，选择该材料层使之对具有预定波长λ的辐射至少部分透射。该材料表面包括直径在1－500nm范围内的颗粒，并且该层材料具有10－2000nm范围内的层厚。不希望有的辐射，例如UV和DUV辐射，通过颗粒的散射例如米氏散射和/或瑞利散射，和/或通过颗粒的吸收而基本上减少或者减弱，同时所需的辐射对于该光学元件的表面是透射的。 | ||
| 申请公布号 | CN1648776A | 申请公布日期 | 2005.08.03 |
| 申请号 | CN200510051841.6 | 申请日期 | 2005.01.20 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | L·P·巴克 |
| 分类号 | G03F7/20;H01L21/027 | 主分类号 | G03F7/20 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 张雪梅;陈景峻 |
| 主权项 | 1.一种光学元件，包括：具有至少一个其上布置了一材料层的表面的基板，选择所述材料层，使之对具有预定波长λ的辐射至少部分地透射，其中该层材料包括其直径在1-500nm范围内的颗粒并且该材料层具有10-2000nm范围内的层厚。 | ||
| 地址 | 荷兰维尔德霍芬 | ||