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发明名称 Lithography exposure device
摘要
申请公布号 EP1319984(A3) 申请公布日期 2005.08.03
申请号 EP20020027118 申请日期 2002.12.04
申请人 KLEO HALBLEITERTECHNIK GMBH & CO KG 发明人 OPOWER, HANS;SCHARL, STEFAN
分类号 G03F7/20;(IPC1-7):G02F1/00 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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