深紫外光之光阻组合物及其方法

摘要

本发明系关于一种对深紫外光之辐射敏感之新颖光阻组合物，及一种用于使该组合物成像之方法。该光阻组合物包含a)一新颖聚合物，其不溶于硷性水溶液且其包含至少一酸不安定(acid labile)基团，及b)一经照射能产生酸之化合物。本发明之新颖聚合物包含至少一具有双酯基团(–C(O)OWC(O)O–)之单元，该双酯基团在一侧附接至包含脂族基团之聚合物主链单元(A)，且在另一侧附接至金刚烷基。本发明亦系关于该新颖聚合物及一种用于获得该新颖聚合物之新颖单体。093135247-p01.bmp