显微蚀刻之低多分散性光可成像丙烯酸聚合物,光阻及方法

摘要

本发明系关于用于光成像及光阻组合物之低多分散性丙烯酸聚合物，及关于使用这些组合物之光成像方法。本发明之低多分散度聚合物系使用受控自由基聚合(CRP)技术(例如，RAFT(可逆加成断片链转移)聚合反应)制成。