结构体之制法及矽氧化物薄膜用蚀刻剂

摘要

一种结构体，其包含一基材及一透过空气间隙在该基材上形成的结构层，其中该结构层系作为一微可动式元件，其可藉由下列方法来制造：一薄膜沉积步骤，其可在该基材上相继形成一由氧化矽薄膜制得的牺牲层及一结构层；一空气间隙形成步骤，其使用一处理流体来进行蚀刻，以移除该牺牲层，而在该基材与结构层间形成一空气间隙；及一净化步骤。藉由使用一含有氟化合物、水溶性有机溶剂及水之超临界二氧化碳流体作为处理流体，可在短时间内以小量处理流体来移除该牺牲层，而不对该结构体造成任何损伤。