在微影制程中晶圆热变形之最佳化修正

摘要

本发明揭示一种修正以微影方式曝露之基板的热致区域变形之方法与装置。在一项具体实施例中，该方法包括根据预指定的曝光资讯将一图案曝露于一基板的复数个区域上，并测量该等区域的属性，以评估藉由该曝光制程的热效应所引起的该等区域之变形。该方法进一步包括根据该等所测量的属性来决定修正资讯，并根据该修正资讯来调整该预指定的曝光资讯，以补偿该等热致区域变形。其他具体实施例包括使用预测模型来预测对该等区域的热致效应与热图形成像以决定横跨一基板的温度变化。