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发明名称
薄膜形成方法,薄膜形成装置,有机电激发光装置的制造方法,有机电激发光装置及电子机器
摘要
本发明的课题是在于提供一种可高精度且正确地进行光罩蒸镀等的各种图案化成膜之薄膜形成方法,及薄膜形成装置,以及使用该薄膜形成方法之有机电激发光装置的制造方法,及有机电激发光装置,具备该有机电激发光装置的电子机器。亦即,本发明之薄膜形成方法,系于基板G与材料源1之间配置光罩M,而将上述材料源1的材料作为薄膜形成于基板G,其特征系具有:基板密着过程,其系使光罩M与基板G密着;间隙测定过程,其系测定光罩M与基板G的间隙;及薄膜形成过程,其系按照该间隙测定过程的测定结果来形成上述薄膜。
申请公布号
TW200525708
申请公布日期
2005.08.01
申请号
TW093138425
申请日期
2004.12.10
申请人
精工爱普生股份有限公司
发明人
四谷真一
分类号
H01L23/00
主分类号
H01L23/00
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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