发明名称 萤光层形成装置
摘要 本发明提供一萤光层形成装置,以涂布一萤光材料膏进入一被界定于一形成于基板上之阻隔墙间之凹槽以于电浆显示面板生产过程中形成一萤光层。该装置包含:一用以喷出该萤光材料膏之喷嘴;及数个装备于该喷嘴一端之尖细附件其末端部分系以收敛关系安排。该萤光材料膏系沿着该数个尖细附件被喷出由此被涂进该凹槽而不会有凝块之形成。因此,该萤光层可正确地被形成于所欲涂布于阻隔墙间之凹槽而不会有萤光材料黏着于该阻隔墙之顶端边缘上。
申请公布号 TWI237287 申请公布日期 2005.08.01
申请号 TW092109395 申请日期 2003.04.22
申请人 富士通日立等离子显示器股份有限公司 发明人 铃木和雄;白川良美;金江达利
分类号 H01J9/227 主分类号 H01J9/227
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项 1.一种萤光层成形装置,其用以涂布一萤光材料膏进入一被界定于一基板上阻隔墙间之凹槽以于电浆显示面板生产过程中形成一萤光层,该装置包含:一用以喷出萤光材料膏之喷嘴;及数个尖细附件,其等被配置于该喷嘴之一端,并具有以收敛关系安排之远端部分,藉此,该萤光材料膏系沿着该等尖细附件被喷出以便被涂布于该凹槽中一预定之位置用以形成该萤光层。2.如申请专利范围第1项之萤光层成形装置,该装置系适于利用该等尖细附件之远端与界定于阻隔墙间之凹槽底部保持接触,而喷出该萤光材料膏。3.如申请专利范围第1项之萤光层成形装置,其中该等尖细附件系各由具有一相对该萤光材料膏不大于60度之湿接触角之材料组成。4.如申请专利范围第1或2项之萤光层成形装置,其中该萤光材料膏于一4s-1之偏转率具有一5至50帕黏度。5.如申请专利范围第3项之萤光层成形装置,其中该萤光材料膏于一4s-1之偏转率具有一5至50帕黏度。6.一种萤光层成形装置,其用以涂布一萤光材料膏进入一被界定于形成在一基板上之阻隔墙间之凹槽以于电浆显示面板生产过程中形成一萤光层,该装置包含:一用以喷出萤光材料膏之喷嘴;及数个尖细附件,其等被配置于该喷嘴之一端而从该喷嘴突出;其中自该喷嘴突出之尖细附件部分各具有一不小于该喷嘴半径之长度。7.一种萤光层成形装置,其用以涂布一萤光材料膏进入一被界定于形成在一基板上之阻隔墙间之凹槽以于电浆显示面板生产过程中形成一萤光层,该装置包含:一具有一出口用以喷出该萤光材料膏之喷嘴;数个尖细附件,其等被配置于该喷嘴之一端;该等尖细附件界定出一具有一较该喷嘴出口大之横截区域之保留部分,以及具有一较该保留部分小之横截区域的一喷出口。8.如申请专利范围第1或2项之萤光层成形装置,其更包含有:一装配于该喷嘴之一萤光材料膏供给口上方之过滤器;其中该等尖细附件之末端系固定于该过滤器。9.如申请专利范围第6或7项之萤光层成形装置,其更包含有:一装配于该喷嘴之一萤光材料膏供给口上方之过滤器;其中该等尖细附件之末端系固定于该过滤器。图式简单说明:第1图系一绘示本发明第一实施例之整体萤光层形成装置;第2(A)与2(B)图系详细图说明如第1图所示之萤光层形成装置之一供给器与一喷嘴;第3图系一图说明一具有如第一实施例萤光层形成装置之构件所形成之萤光层之PDP;第4(A)与4(B)图系详细图说明如本发明第二实施例之一萤光层形成装置之一喷嘴;第5(A)图系一详细图说明如本发明之一第三实施例之萤光层形成装置之一喷嘴;第5(B)图系一表显示如第三实施例由一萤光材料层之表面张力与密度决定之一因子;第5(C)图系一曲线图说明如第三实施例该喷嘴之外部直径与尖细附件长度间之关系;第6(A)至6(C)图系详细图说明如本发明之一第四实施例萤光层形成装置之一喷嘴;第7(A)与7(B)图系详细图说明如第四实施例之一修正之一萤光层形成装置之一喷嘴;第8(A)至8(C)图系详细图说明如本发明之一第五实施例之一萤光层形成装置之一喷嘴;第9图系一详细图说明如第一或第二实施例之一修正之一萤光层形成装置之一喷嘴;第10图系一图用以解释如第一或第二实施例之修正之萤光层形成装置之运作;第11图系一详细图说明如第一或第二实施例之另一修正之一萤光层形成装置之一喷嘴;第12(A)、12(B)与12(C)图系详细图说明如第一或第二实施例之进一步另一修正之一萤光层形成装置之一喷嘴;第13图系一图用以解释一传统萤光层形成装置之运作;与第14(A)与14(B)图系一详细图说明传统萤光层形成装置之一喷嘴。
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