| 主权项 |
1.一种防止蚀刻机台之组件锈蚀的方法,其特征在于将所述蚀刻机台之组件浸泡于不含氢离子的溶液中,使其在所述蚀刻机台之组件的表面上形成一层防止盐酸腐蚀的保护膜;其中该溶液为包含研一氟系的化合物溶液。2.如专利申请范围第1项所述之防止蚀刻机台之组件锈蚀的方法,其中所述碳-氟系的化合物溶液系C6F14溶液。3.一种防止蚀刻机台之组件锈蚀的方法,其特征在于将不含氢离子的溶液涂布在所述蚀刻机台之组件的表面上,使其在所述蚀刻机台之组件的表面上形成一层防止盐酸腐蚀的保护膜;其中该溶液为包含研一氟系的化合物溶液。4.如专利申请范围第3项所述之防止蚀刻机台之组件锈蚀的方法,其中所述碳-氟系的化合物溶液系C6F14溶液。5.一种C6F14的使用方法,其特征在于在蚀刻机台之组件的表面上形成一层C6F14薄膜,以做为防止盐酸腐蚀的保护膜。6.如专利申请范围第5项所述之C6F14的使用方法,其中所述C6F14膜层系以涂布的方式形成。7.如专利申请范围第6项所述之C6F14的使用方法,其中所述C6F14膜层系以浸泡的方式形成。 |
