发明名称 含氟芳香族聚合物及其用途
摘要 提供耐热性优良,比介电率低之含氟芳香族聚合物及由该聚合物所构成的电子装置用绝缘膜及多层电路板用绝缘膜。令式1所示分支构造之含氟芳香族化合物(B)与具有交联性官能基(A)和酚性羟基之化合物(Y1)于脱HF剂存在下进行缩合反应之方法等所制造之一分子中含有二个以上之交联性官能基(A),且数平均分子量为1×103~5×105之具有醚键的含氟芳香族聚合物。式1
申请公布号 TWI237039 申请公布日期 2005.08.01
申请号 TW091115442 申请日期 2002.07.11
申请人 旭硝子股份有限公司 发明人 横塚俊亮;竹尾总明
分类号 C08G65/38 主分类号 C08G65/38
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种具有醚键之含氟芳香族聚合物,其特征为其系以下述、及之方法所组成群中选出一种以上之方法、由下述式1所示分支构造之含氟芳香族化合物(B)所制造之于1分子中含有2个以上交联性官能基(A),且数平均分子量为1103~5105者:此处,m及n为分别独立表示1~4之整数,p、q及r分别独立表示0或1~5之整数,a、b及c分别独立表示0或1~3之整数,2≦m+n≦5;令上述式1所示分支构造之含氟芳香族化合物(B)、和具有交联性官能基(A)及酚性羟基之化合物(Y1),于脱HF剂存在下述进行缩合反应之方法;令前述含氟芳香族化合物(B)、与具有交联性官能基(A)及酚性羟基之化合物(Y1)、与不具有交联性官能基且具有2个以上酚性羟基之化合物(Y2),于脱HF剂存在下进行缩合反应之方法;令前述含氟芳香族化合物(B)、与具有交联性官能基(A),且于芳香核中具有氟取代基之芳香族化合物(Z)、与不具有交联性官能基,且具有2个以上酚性羟基之化合物(Y2),于脱HF剂存在下进行缩合反应之方法。2.如申请专利范围第1项之含氟芳香族聚合物,其中该含氟芳香族化合物(B)为下述式2所示之全氟(1,3,5-三苯基苯)或全氟(1,2,5-三苯基苯):3.如申请专利范围第1或2项之含氟芳香族聚合物,其中该交联性官能基(A)为乙炔基。4.如申请专利范围第1或2项之含氟芳香族聚合物其系使用于电子装置用绝缘膜者。5.如申请专利范围第1或2项之含氟芳香族聚合物其为使用于多层线路板用绝缘膜。6.如申请专利范围第4项之绝缘膜,其系于绝缘膜中含有空孔。7.如申请专利范围第5项之绝缘膜,其系于绝缘膜中含有空孔。
地址 日本