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发明名称
半导体积体电路装置之制造方法
摘要
本发明提供一种可实现具有窄间距化之测试垫之半导体积体电路装置之电性检查之技术。将依序层积铑膜及镍膜而形成之金属膜21A、21B之一部分,作为形成4角锥型或4角锥梯形型之探针7A、7B,经由于配线23与金属膜21A、21B之间之聚醯亚胺膜形成之通孔24,电性地连接配线23及金属膜21A、21B,形成有探针7B之金属膜21B及通孔24之平面图案系将形成有探针7A之金属膜21A及通孔24之平面图案旋转180°之图案。
申请公布号
TW200525665
申请公布日期
2005.08.01
申请号
TW093131217
申请日期
2004.10.14
申请人
瑞萨科技股份有限公司
发明人
冈元正芳;长谷川义昭;本山康博;松本秀幸;寄崎真吾;长谷部昭男;柴田隆嗣;成塚康则;薮下明;真岛敏幸
分类号
H01L21/60;H01L21/66
主分类号
H01L21/60
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
日本
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