蚀刻终点侦测用之方法与设备

摘要

广泛而言，本发明提供用以监测电浆发射光。更明确而言，本发明提供用以通过可变孔口监测电浆发射光，以侦测电浆蚀刻处理终点之方法，而无可能导致错误终点判定之干扰。本方法包括通过由可移动构件界定的孔口，自电浆收集发射光数据。可移动构件能够改变孔口的结构。此方法也包括在特定时间固定住可移动构件以使孔口保持于固定结构。此方法更包括在固定住可移动构件时侦测电浆发射光中的特定扰动。