发明名称 整平头结构
摘要 一种整平头结构,适用于封装制程中以压平封装焊球,此整平头结构至少包括一主体以及一类钻碳(Diamond-Like Carbon;DLC)薄膜。其中,上述之主体具有一平坦压面,而类钻碳薄膜则覆盖在主体之平坦压面上。
申请公布号 TWI236940 申请公布日期 2005.08.01
申请号 TW093125907 申请日期 2004.08.27
申请人 馗鼎奈米科技股份有限公司 发明人 洪昭南;梁国超;徐逸明;陈俊钦;王俊尧;王亮钧;李家欣;李志勇;陈彦政
分类号 B21J13/02;H01L21/56 主分类号 B21J13/02
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路148号12楼
主权项 1.一种整平头结构,适用于一封装制程以压平封装 焊球,该整平头结构至少包括: 一主体,该主体具有一平坦压面;以及 一类钻碳(DLC)薄膜覆盖在该主体之该平坦压面上 。 2.如申请专利范围第1项所述之整平头结构,其中该 类钻碳薄膜之厚度介于0.1m至10m之间。 3.如申请专利范围第1项所述之整平头结构,其中该 类钻碳薄膜之厚度介于1m至3m之间。 4.如申请专利范围第1项所述之整平头结构,其中该 类钻碳薄膜之材质至少包括碳。 5.如申请专利范围第4项所述之整平头结构,其中该 类钻碳薄膜之材质系选自于由氢、氧、氮、矽、 及其组合所组成之一族群。 6.如申请专利范围第5项所述之整平头结构,其中该 类钻碳薄膜之材质系选自于由铬、钛、铝、钨、 钼、及其组合所组成之一族群。 7.一种整平头结构,适用于一封装制程以压平封装 焊球,该整平头结构至少包括: 一主体,该主体具有一平坦压面;以及 一类钻碳薄膜包覆在该主体上。 8.如申请专利范围第7项所述之整平头结构,其中该 类钻碳薄膜之厚度介于0.1m至10m之间。 9.如申请专利范围第7项所述之整平头结构,其中该 类钻碳薄膜之厚度介于1m至3m之间。 10.如申请专利范围第7项所述之整平头结构,其中 该类钻碳薄膜之材质至少包括碳。 11.如申请专利范围第10项所述之整平头结构,其中 该类钻碳薄膜之材质系选自于由氢、氧、氮、矽 、及其组合所组成之一族群。 12.如申请专利范围第11项所述之整平头结构,其中 该类钻碳薄膜之材质系选自于由铬、钛、铝、钨 、钼、及其组合所组成之一族群。 图式简单说明: 第1图系绘示依照本发明第一较佳实施例的一种整 平头结构之立体图。 第2图系绘示依照本发明第一较佳实施例的一种整 平头结构之剖面图。 第3图系绘示依照本发明第二较佳实施例的一种整 平头结构之剖面图。
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