发明名称 浸水泵浦之挡水装置
摘要 本创作系一种浸水泵浦之挡水装置,其具有一壳体,壳体的周壁设有排水孔,壳体内设有具有挡水环之座体,当高压液体进入壳体内时,高压液体会先后受到座体与挡水环的阻挡,藉以减缓高压液体之冲力,失去冲力的液体会由排水孔处流回储槽内,如此保护马达与避免周遭环境湿滑的情况。
申请公布号 TWM271964 申请公布日期 2005.08.01
申请号 TW094202973 申请日期 2005.02.25
申请人 大井泵浦工业股份有限公司 发明人 黄秀雄
分类号 F04D13/08;F04D29/66 主分类号 F04D13/08
代理机构 代理人 林镒珠 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项 1.一种浸水泵浦之挡水装置,其具有: 一壳体,其内设有容室,壳体的中央设有贯孔,于壳 体的周壁设有观测孔与出水口,其特征在于: 壳体的周壁设有排水孔,容室、贯孔、观测孔与排 水孔相通; 一座体,其顶端与底端分别设有顶容槽与底容槽, 顶容槽的顶端之边缘处设有数相互间隔的顶缺口, 底容槽的底端之边缘处设有底缺口,座体系设置于 壳体的容室内; 顶容槽的底端设有贯孔,而贯孔可使顶容槽与底容 槽相通; 一挡水圈,其周壁设有一环槽,挡水圈系设置于顶 容槽内。 2.如申请专利范围第1项所述之浸水泵浦之挡水装 置,其中座体之贯孔相对于顶容槽的底端的边缘处 突设有突缘; 挡水圈相对于顶容槽的突缘位置处设有凹槽。 3.如申请专利范围第1或2项所述之浸水泵浦之挡水 装置,其中座体之贯孔的内壁面为斜面。 4.如申请专利范围第3项所述之浸水泵浦之挡水装 置,其中挡水圈的环槽之底端为倾斜面。 图式简单说明: 第一图系装设有本创作之浸水泵浦之剖面图。 第二图系本创作之剖面图。 第三图系座体与挡水圈之立体剖面图。 第四图系现有的浸水泵浦之剖面图。 第五图系现有的浸水泵浦之局部剖面图。
地址 台北县三芝乡后厝村大片头83之14号