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发明名称 METHOD OF OXIDATION OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF FORMING OXIDE FILM USING THE SAME
摘要
申请公布号 KR100505064(B1) 申请公布日期 2005.07.29
申请号 KR20030028649 申请日期 2003.05.06
申请人 发明人
分类号 H01L21/31;C23C8/12;C23C8/28;H01L21/314;(IPC1-7):H01L21/31 主分类号 H01L21/31
代理机构 代理人
主权项
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