| 发明名称 |
Verfahren zur Kristallisation von amorphem Silicium unter Verwendung von Nanopartikeln |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE60204758(D1) |
申请公布日期 |
2005.07.28 |
| 申请号 |
DE20026004758 |
申请日期 |
2002.11.05 |
| 申请人 |
SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. |
发明人 |
KHANG, YOON-HO |
| 分类号 |
B82B3/00;C30B13/00;G02F1/13;H01L21/20;H01L21/208;H01L21/336;H01L29/786;(IPC1-7):C30B13/00;C30B29/06 |
主分类号 |
B82B3/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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