发明名称 Fotomaske
摘要 Eine Fotomaske wird offenbart. Die Fotomaske weist Folgendes auf: ein erstes Muster verläuft längs einer Achse der Fotomaske, mindestens eines zweiten Musters in der Fotomaske weist einen Abstand vom und einen bestimmten Winkel zum ersten Muster auf, und Schlitze aus Chrom sind auf mindestens einem Ende jedes der Muster vorgesehen, wobei die Fotomaske eine chromlose Maske ist.
申请公布号 DE102004063455(A1) 申请公布日期 2005.07.28
申请号 DE20041063455 申请日期 2004.12.23
申请人 DONGBUANAM SEMICONDUCTOR INC., GYEONGGI 发明人
分类号 G03F1/08;G03C5/00;G03F1/00;G03F1/14;G03F1/34;G03F1/54;G03F9/00;H01L21/027;(IPC1-7):G03F1/14 主分类号 G03F1/08
代理机构 代理人
主权项
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