| 发明名称 |
LOW COST SOURCE DRAIN ELEVATION THROUGH POLY AMORPHIZING IMPLANT TECHNOLOGY |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG112924(A1) |
申请公布日期 |
2005.07.28 |
| 申请号 |
SG20040006554 |
申请日期 |
2004.09.09 |
| 申请人 |
CHARTERED SEMICONDUCTOR MANUFACTURING LTD |
发明人 |
LI YI SUO;FRANCIS BENISTANT;TEE KIAN MENG;CHUI KING JIEN |
| 分类号 |
H01L21/265;H01L21/336;H01L29/78 |
主分类号 |
H01L21/265 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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