发明名称 |
附着在固体上并用于增强CMP配方的形成自由基的活化剂 |
摘要 |
本发明提供一种用于化学机械抛光的组合物,其包括至少一种具有部分被活化剂涂布的表面的磨料颗粒。该活化剂包括一种除4(b)族、5(b)族或6(b)族的金属以外的金属。组合物进一步包括至少一种氧化剂。由于在活化剂表面,涂布在磨料颗粒表面的活化剂与氧化剂之间相互反应生成自由基,组合物被认为是有效的。本发明进一步提供一种用该组合物抛光衬底表面的部件或层,例如金属薄膜的方法。本发明还提供一种由此方法制造的衬底。 |
申请公布号 |
CN1646650A |
申请公布日期 |
2005.07.27 |
申请号 |
CN03807995.X |
申请日期 |
2003.02.11 |
申请人 |
杜邦空中产品纳米材料公司 |
发明人 |
R·J·斯莫尔;B·S·斯考特 |
分类号 |
C09G1/02;C09G1/04;B24B1/00 |
主分类号 |
C09G1/02 |
代理机构 |
北京纪凯知识产权代理有限公司 |
代理人 |
沙捷;彭益群 |
主权项 |
1.一种用于化学机械抛光半导体或存储器件衬底的组合物,该组合物包括:一种流体,其包括至少一种产生自由基的化合物,其中所述至少一种化合物在与至少一种活化剂接触时产生自由基,而且其中该流体的pH值在大约1至大约11之间;和大量颗粒,它们具有表面和与该表面缔合的至少一种活化剂,其中所述至少一种活化剂包括IV(B)族、V(B)族、或VI(B)族金属以外的金属,而且其中所述金属具有多种氧化态,其中所述组合物在用于化学机械抛光工艺时能去除所需的金属,但却不会产生瑕疵或不均匀性,这样衬底不用进一步加工即可成为可使用的半导体或存储器件成品。 |
地址 |
美国亚利桑那州 |