发明名称 | 形成辐射图案的工具以及形成辐射图案的工具的方法 | ||
摘要 | 一种例如形成辐射图案的工具,可以利用它在基底上形成相当圆的接触点,其中接触点的阵列沿着阵列的行具有与沿着阵列的列不同的节距。交替的相位移动可以在小节距(稠密的)方向上给出很好确定的接触点。在节距较大的方向上添加边缘移动装置,迫使形成圆形的接触点开孔。在另一方面,可以在相邻的边缘之间添加抑制侧瓣的图案。以及一种包括制作形成辐射图案的工具的方法。 | ||
申请公布号 | CN1646987A | 申请公布日期 | 2005.07.27 |
申请号 | CN03807920.8 | 申请日期 | 2003.01.24 |
申请人 | 微米技术有限公司 | 发明人 | D·H·杜尔曼 |
分类号 | G03F1/00;G03F1/14 | 主分类号 | G03F1/00 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 崔幼平 |
主权项 | 1.一种形成辐射图案的工具,它包括:具有周边的特征图案,该特征图案构形成将第一相位旋转赋予穿过该特征图案的光波;以及沿着该特征图案的周边的一部分但是不沿着特征图案的整个周边的边缘;该边缘构形成当光波穿过该边缘时将第二相位旋转赋予光波;第二相位旋转为相对于第一相位旋转大约170°到大约190°。 | ||
地址 | 美国爱达荷州 |