发明名称 光信息记录介质原盘和模的制造方法,原盘和模及介质
摘要 本发明的目的是提供一种制造光信息记录介质的原盘的方法;制造光信息记录介质的模子的方法;光信息记录介质的原盘和模子;和光信息记录介质,其中当在模子的一侧上录制预定图案的凹坑和/或槽时,通过减少无机材料的状态改变,使凹坑和/或槽的图案保持高质量的形状,即使使用无机材料作为抗蚀剂。一种制造在光信息记录介质的模子上录制预定图案的凹坑和/或槽的光信息记录介质的原盘106的方法,包括在基板101上形成包括第一无机材料的抗蚀剂102,第一无机材料的状态而曝光而改变,通过曝光和显影在抗蚀剂102上形成凹坑和/或槽的图案,和在凹坑和/或槽的图案上形成无机隔离层107。
申请公布号 CN1645496A 申请公布日期 2005.07.27
申请号 CN200410104962.8 申请日期 2004.12.15
申请人 松下电器产业株式会社 发明人 伊藤英一;川口优子
分类号 G11B7/26 主分类号 G11B7/26
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 王玮
主权项 1.一种制造光信息记录介质的原盘的方法,用于在光信息记录介质的模子上录制预定的图案凹坑或槽,包括步骤:在基板上形成包括第一无机材料的抗蚀剂,其中该材料的状态随曝光而改变;通过曝光和显影在抗蚀剂上形成凹坑或槽的图案;和在凹坑或槽的图案上形成隔离层。
地址 日本大阪府