发明名称 铁电薄膜的化学液相交替沉积方法
摘要 铁电薄膜的化学液相交替沉积方法,涉及一种铁电薄膜沉积技术。本发明在基底材料上交替涂覆前驱体溶液,利用层间合成反应制备铁电薄膜。本发明的有益效果是,因为每次旋涂得到薄层很薄,在纳米级,并且第一个薄层热处理后得到的晶粒粒径很小,只有十几个纳米,尺度在纳米级的薄层化学活性很高,所以可以降低热处理温度。本技术与传统方法相比,最高热处理温度要低 100℃。而且采用本发明,制备薄膜的速度可以大为提高。
申请公布号 CN1644762A 申请公布日期 2005.07.27
申请号 CN200410036793.9 申请日期 2004.04.30
申请人 电子科技大学 发明人 刘敬松;张树人;杨成韬
分类号 C23C22/73 主分类号 C23C22/73
代理机构 成都虹桥专利事务所 代理人 刘勋
主权项 1、铁电薄膜的化学液相交替沉积方法,其特征在于,在基底材料上交替涂覆前驱体溶液,利用层间合成反应制备铁电薄膜。
地址 610054四川省成都市建设北路一段4号