发明名称 | 铁电薄膜的化学液相交替沉积方法 | ||
摘要 | 铁电薄膜的化学液相交替沉积方法,涉及一种铁电薄膜沉积技术。本发明在基底材料上交替涂覆前驱体溶液,利用层间合成反应制备铁电薄膜。本发明的有益效果是,因为每次旋涂得到薄层很薄,在纳米级,并且第一个薄层热处理后得到的晶粒粒径很小,只有十几个纳米,尺度在纳米级的薄层化学活性很高,所以可以降低热处理温度。本技术与传统方法相比,最高热处理温度要低 100℃。而且采用本发明,制备薄膜的速度可以大为提高。 | ||
申请公布号 | CN1644762A | 申请公布日期 | 2005.07.27 |
申请号 | CN200410036793.9 | 申请日期 | 2004.04.30 |
申请人 | 电子科技大学 | 发明人 | 刘敬松;张树人;杨成韬 |
分类号 | C23C22/73 | 主分类号 | C23C22/73 |
代理机构 | 成都虹桥专利事务所 | 代理人 | 刘勋 |
主权项 | 1、铁电薄膜的化学液相交替沉积方法,其特征在于,在基底材料上交替涂覆前驱体溶液,利用层间合成反应制备铁电薄膜。 | ||
地址 | 610054四川省成都市建设北路一段4号 |