| 发明名称 | 一种用于硬掩膜层的含氧化硅基团的抗反射组合物 | ||
| 摘要 | 以存在具有生色基团和透明基团的含SiO聚合物为特征的抗反射组合物是在平版印刷工艺中很有用的抗反射硬掩膜组合物。这些组合物提供了突出的光学、机械和蚀刻选择性能而同时又可用旋涂技术涂布。本发明的该组合物可有效地应用于更短波长的平版印刷工艺和/或具有微量的残余酸含量。 | ||
| 申请公布号 | CN1646989A | 申请公布日期 | 2005.07.27 |
| 申请号 | CN03807642.X | 申请日期 | 2003.04.01 |
| 申请人 | 国际商业机器公司 | 发明人 | 德克·法伊弗;玛丽·安杰洛波洛斯;凯瑟琳娜·巴比奇;菲利普·布罗克;黄武松;阿潘·P·马霍罗瓦拉;戴维·R·梅代罗斯;拉特纳姆·苏里亚库马兰 |
| 分类号 | G03F7/00;G03F7/004;G03F7/09;G03F7/26 | 主分类号 | G03F7/00 |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 黄益芬;巫肖南 |
| 主权项 | 1.一种适合于形成旋涂抗反射硬掩膜层的组合物，该组合物包括：(a)具有生色基团和透明基团的含SiO聚合物，(b)单独的交联组分，和(c)产酸剂。 | ||
| 地址 | 美国纽约州 | ||