| 主权项 |
1.一种冷却辊,尤指有关将熔态磁铁材料冲撞于其周面,藉冷却固化而制造薄带状磁铁材料用之冷却辊,其特征为:在冷却辊之周面上,设置可将产生于前述薄带状磁铁材料与冷却辊间之接触面的凹涡予以分开之凹涡矫正手段,前述凹涡矫正手段,至少为一条凸条,前述凸条是藉由在前述冷却辊周面形成槽沟所设置而成,前述槽沟之平均宽度为0.5~90m,藉由该槽沟的宽度可防止熔态磁铁材料侵入槽沟。2.如申请专利范围第1项之冷却辊,其中,前述冷却辊,具有辊基材、与设在该辊基材外周之表面层,并在前述表面层设有前述凹涡矫正手段。3.如申请专利范围第2项之冷却辊,其中前述表面层,系由热传导率较前述辊基材之构成材料在室温范围内之热传导率更低材料所构成。4.如申请专利范围第2项之冷却辊,其中前述表面层,系以陶瓷所构成。5.如申请专利范围第2项之冷却辊,其中前述表面层,系由热传导率在室温范围内低于80W.m-1.K-1以下之材料所构成。6.如申请专利范围第2项之冷却辊,其中前述表面层,系由热膨胀率在室温范围内为3.5~18[10-6K-1]的材料所构成。7.如申请专利范围第2项之冷却辊,其中前述表面层之平均厚度为0.5~50m。8.如申请专利范围第2项之冷却辊,其中前述表面层系在其表面不进行机械加工而形成者。9.如申请专利范围第1项之冷却辊,其中前述凸条之平均宽度为0.5~95m者。10.如申请专利范围第1项之冷却辊,其中前述凸条之平均高度或者前述槽沟之平均深度为0.5~20m。11.如申请专利范围第1项之冷却辊,其中前述凸条或前述槽沟,系形成以前述冷却辊之旋转轴为中心之螺旋状。12.如申请专利范围第1项之冷却辊,其中同时设有前述凸条及前述槽沟,且其平均节距为0.5~100m者。13.如申请专利范围第1项之冷却辊,其中于前述周面上的前述凸条或前述槽沟所占投影面积之比例为10%以上者。14.一种薄带状磁铁材料,尤指有关使熔态磁铁材料冲撞于冷却辊周面,系冷却固化所得之薄带状磁铁材料,其特征为:前述冷却辊,系在其周面上具有可分开其与薄带状磁铁材料之接触面之产生之凹涡的凹涡矫正手段,前述凹涡矫正手段,至少为一条凸条,前述凸条是藉由在前述冷却辊周面形成槽沟所设置而成,前述槽沟之平均宽度为0.5~90m,藉由该槽沟的宽度可防止熔态磁铁材料侵入槽沟。15.如申请专利范围第14项之薄带状磁铁材料,其中,于前述冷却辊间之接触面形成有槽沟或凸条,并藉该槽沟或该凸条将凹涡予以分开者。16.如申请专利范围第14项之薄带状磁铁材料,其中当凝固时所形成之2000m2以上巨大凹涡在前述冷却辊之接触面上所占面积之比例为10%以下者。17.如申请专利范围第14项之薄带状磁铁材料,其中在其与前述冷却辊之接触面至少转印有部分前述冷却辊之表面形状者。18.如申请专利范围第14项之薄带状磁铁材料,其中,其平均厚度为8~50m者。19.一种磁铁粉末,尤指有关使熔态磁铁材料的冲撞于冷却辊周面,让其冷却固化而得薄带状材料,再将其粉碎所得之磁铁粉末,其特征为:前述冷却辊,系在其周面上具有可分开其与薄带状磁铁材料之接触面上所产生之凹涡的凹涡矫正手段,前述凹涡矫正手段,至少为一条凸条,前述凸条是藉由在前述冷却辊周面形成槽沟所设置而成,前述槽沟之平均宽度为0.5~90m,藉由该槽沟的宽度可防止熔态磁铁材料侵入槽沟。20.如申请专利范围第19项之磁铁粉末,其中,在其制造过程或制造后至少施予1次热处理者。21.如申请专利范围第19项之磁铁粉末,其中,以其平均粒径为1~300m者。22.如申请专利范围第19项之磁铁粉末,其中,磁铁粉末为由具有软磁性相与硬磁性相之复合组织所构成。23.如申请专利范围第22项之磁铁粉末,其中,前述硬磁性相及前述软磁性相之平均结晶粒径,皆为1~100nm。24.一种胶合磁铁,尤指有关使熔态磁铁材料冲撞于冷却辊周面,让其冷却固化所得薄带状磁铁材料再予粉碎成磁铁粉末,再藉由胶合树脂将磁铁粉末胶合而成之胶合磁铁,其特征为:前述冷却辊,系在其周面上具有可分开其与薄带状磁铁材料之接触面上所产生之凹涡的凹涡矫正手段,前述凹涡矫正手段,至少为一条凸条,前述凸条是藉由在前述冷却辊周面形成槽沟所设置而成,前述槽沟之平均宽度为0.5~90m,藉由该槽沟的宽度可防止熔态磁铁材料侵入槽沟。25.如申请专利范围第24项之胶合磁铁,其中,其在室温中之固有保磁力HCJ为320~1200 KA/m者。26.如申请专利范围第24项之胶合磁铁,其中,其最大磁力能量积(BH)max为40KJ/m3以上者。图式简单说明:第1图系以模式形态表示本发明所属冷却辊之第1实施形态,与使用该冷却辊制造薄带状磁铁材料之装置(急冷薄带制造装置)构成例的透视图。第2图为第1图所示冷却辊之正面图。第3图系以模式形态表示于第1图中所示冷却辊周面附近的截面形状图。第4图系以模式形态表示用已往习见之薄带状磁铁材料藉单辊法制造之装置(急冷薄带制造装置)中,熔态材料与冷却辊冲撞部位附近之状态的截面剖视图。第5图系以模式形态表示在第1图所示制造薄带状磁铁材料之装置(急冷薄带制造装置)中熔融材料与冷却辊冲撞部位附近之状态的截面剖视图。第6图系以模式形态表示用已往习见之薄带状磁铁材料藉单辊法制造之装置(急冷薄带制造装置)所制造薄带状磁铁材料表面形状之透视图。第7图系以模式形态表示在第1图所示制造薄带状磁铁材料之装置(急冷薄带制造装置)中所制薄带状磁铁材料表面形状之透视图。第8图系属凹涡矫正手段形成方法之说明图。第9图系属凹涡矫正手段形成方法之说明图。第10图系以模式形态表示本发明所属磁铁粉末中复合组织(超微复合组织)之一例者。第11图系以模式形态表示本发明所属磁铁粉末中复合组织(超微复合组织)之一例者。第12图系以模式形态表示本发明所属磁铁粉末中复合组织(超微复合组织)之一例者。第13图系以模式形态表示本发明所属冷却辊之第2实施形态的正面图。第14图系以模式形态将第13图中所示冷却辊周面附近之截面形状予以表示之图。第15图系以模式形态表示本发明所属冷却辊之第3实施形态的正面图。第16图系以模式形态表示将第15图中之冷却辊周面附近截面形状的图。第17图系以模式形态表示本发明所属冷却辊之第4实施形态的正面图。第18图系以模式形态表示第17图中之冷却辊周面附近之截面形状的图。第19图系以模式形态表示本发明的所属冷却辊之其他实施形态的正面图。第20图系以模式形态表示本发明的所属冷却辊之其他实施形态的周面附近截面形状图。第21图系以模式形态表示本发明的所属冷却辊之其他实施形态的周面附近截面形状图。第22图系表示本发明所属薄带状磁铁材料表面形状之电子显微镜照片。第23图系表示藉单辊法制造已往习见之薄带状磁铁材料的装置(急冷薄带型制造装置)中熔态材料与冷却辊冲撞部位附近状态之截面侧视图。 |
