发明名称 溅镀机阴极靶源结构
摘要 本创作系有关一种溅镀机阴极靶源结构,主要系将靶材固定于靶源外框上,而对应组设于真空腔体内,且靶源外框与大小材积之被镀物间的距离,可藉由于靶源外框周围增减垫材,而使被镀物与靶材间之溅镀距离处于理想范围,进而使溅镀之薄膜达到最佳状态。
申请公布号 TWM271024 申请公布日期 2005.07.21
申请号 TW093207520 申请日期 2004.05.14
申请人 蔡俊毅 发明人 蔡俊毅
分类号 C23C14/00 主分类号 C23C14/00
代理机构 代理人 石继志 高雄市苓雅区四维四路7号4楼E室
主权项 一种溅镀机阴极靶源结构,该靶源系对应组设于真空腔体之容孔上,主要由靶源外框、靶材、隔垫、锁本体、盖板及定位块所构成;该靶源外框之环缘延伸形成有锁定缘,且分布设有复数定位孔及锁孔,而中央位置设有一具抵掣缘之容置通槽;另该靶材外部套设有隔垫,且同时对应锁固定位于锁本体上,而锁本体上再对应锁固一盖板,续将其盖板、锁本体、磁性体、隔垫及靶材对应嵌入靶源外框所设之容置通槽内,且使隔垫对应置设在容置通槽内所形成之抵掣缘处,再将设有具锁设端及抵压端之定位块对应抵掣锁本体、隔垫及靶材,同时以锁设端对应锁固于靶源外框之锁孔上,其中:于该靶源外框对应锁设于真空腔体之容槽处,系可设有具定位螺孔及锁孔之垫材对应锁设于靶源外框之锁定缘与真空腔体之容孔口处;藉以垫材之锁孔以螺设件对应锁固于真空腔体之容孔处,而定位孔则对应与靶源外框之锁定缘之定位螺孔,而以螺设件对应将其锁固而达可调整靶源高度者。图式简单说明:第一图:本创作之立体分解示意图第二图:本创作剖视示意图第三图:本创作之俯视示意图。第四图:本创作之另一状态分解示意图第五图:本创作之另一状态剖视示意图第六图:本创作之再一状态剖视示意图
地址 台南县安定乡保西村安定385之2号