| 主权项 |
1.一种放电电浆处理系统,用以利用电浆处理于一 真空室内之物件,该系统包含:一磁场产生机构,用 以产生藉由连续存在真空室中之连续零磁场位置 所形成之磁中性线;以及;一电场产生机构,用以藉 由施加一射频电场至产生于真空室内之磁中性线, 而在包含有磁中性线的空间内产生放电电浆,该磁 场产生机构具有至少两线性电流棒安排在真空室 外并与真空室内之处理物件之予以处理表面平行, 以在相邻定位之线性电流棒间之真空室内,形成至 少一线性磁中性线。 2.如申请专利范围第1项所述之系统,其中该磁场产 生机构之线性电流棒系被安排呈一对,并以处理物 件安插于其间。 3.如申请专利范围第2项所述之系统,其中,该对线 性电流棒系被安排呈并置并且彼此平行,以藉由使 定电流个别行经电流棒,而在真空室内之其间之位 置,形成与之平行进行之线性磁中性线,该等定电 流系为具有直流或具有相同相位之交流。 4.如申请专利范围第2项所述之系统,其中,多数对 线电流棒系被安排与一矩形平面之一侧平行,具有 矩形平面内插于其间,以形成多数线性磁中性线, 与矩形平面之该侧平行进行并安排在定义于真空 室内之矩形平面上,行经同一方向之电流系被造成 行经每一对之线性电流棒。 5.如申请专利范围第4项所述之系统,其中该行经一 对电流棒之电流系被流动于与流经相邻对电流棒 之电流相反之方向中,该相邻对电流棒系被安排与 界定于真空室内之矩形平面上之矩形平面之一侧 平行,该矩形平面内插于其间。 6.如申请专利范围第1项所述之系统,其中,该磁场 产生机构之线性电流棒系被安排成与处理物件之 予以处理表面平行。 7.如申请专利范围第6项所述之系统,其中电场产生 机构之线性电流棒系被安排成彼此平行及形成在 平行于真空中之相邻线性电流棒并在其间之位置 的线性磁中性线系藉由使相反方向之电流流经相 邻线性电流棒加以控制。 8.如申请专利范围第6项所述之系统,其中多数线性 电流棒系被安排与用于电场产生机构之矩形平面 之一侧平行,以在真空室内之矩形平面上,形成多 数线性磁中性线,由多数线性磁中性线所形成之平 面的位置可以藉由使具有相同电流値之电流以相 反方向流经相邻线性电流棒加以控制。 9.如申请专利范围第1项所述之系统,其中该磁场产 生机构之线性电流棒系可沿着真空室移动,以藉由 平行位移多数线性磁中性线,而形成平面磁中性线 放电电浆。 10.如申请专利范围第1项所述之系统,其中该电场 产生机构包含至少一对电极,安排于该真空室内, 具有一线性磁中性线安插于其间并适用以施加一 射频可变电位。 11.如申请专利范围第1项所述之系统,其中每一对 电极系由多数带状电极所形成。 12.如申请专利范围第1项所述之系统,其中每一对 电极系由扁平板状电极所形成。 图式简单说明: 第1图为传统电感电场型圆磁中性线放电电浆处理 系统之纵长剖面图; 第2图为依据本发明之磁中性线放电电浆处理系统 实施例之纵长剖面图; 第3图为可以用于第2图之磁中性线放电电浆处理 系统之一对线性电流棒所形成之磁场产生机构的 立体图; 第4图为第2图之磁场产生机构之该对线性电流棒 之立体图,其例示于该对线性电流棒端之相邻中性 线; 第5图为相对于磁场产生机构之多数成对线性电流 棒之垂直剖面及所产生磁中性线之磁力线示意图; 及 第6图为依据本发明之磁中性线放电电浆处理系统 另一实施例之纵长剖面图。 |
