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发明名称 SLURRY FOR CMP AND METHODS OF FABRICATING THE SAME
摘要
申请公布号 KR20050074834(A) 申请公布日期 2005.07.19
申请号 KR20040002743 申请日期 2004.01.14
申请人 HANYANG HAK WON CO., LTD.;K.C. TECH CO., LTD. 发明人 PAIK, UN GYU;PARK, JAE GUN;KIM, SANG KYUN;KATOH TAKEO
分类号 H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
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