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发明名称
SYSTEM AND METHOD FOR CONTROLLING CHEMICAL MECHANICAL POLISHING
摘要
申请公布号
KR20050073891(A)
申请公布日期
2005.07.18
申请号
KR20040002004
申请日期
2004.01.12
申请人
SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.
发明人
CHO, JANG WOO;BOO, JAE PHIL;SUNG, JUNG HWAN;JUNG, KI HONG;SEO, KEON SIK;KIM, MYUNG SEOK
分类号
H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/304
主分类号
H01L21/304
代理机构
代理人
主权项
地址
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