METHOD FOR MANUFACTURING FIN FET IN SEMICONDUCTOR DEVICE,申请号KR20030060852-传众专利搜索

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发明名称	METHOD FOR MANUFACTURING FIN FET IN SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号	KR100501545(B1)	申请公布日期	2005.07.18
申请号	KR20030060852	申请日期	2003.09.01
申请人		发明人
分类号	H01L21/335;(IPC1-7):H01L21/335	主分类号	H01L21/335
代理机构		代理人
主权项
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