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发明名称
A METHOD FOR FORMING A CONTACT OF A SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号
KR20050073846(A)
申请公布日期
2005.07.18
申请号
KR20040001950
申请日期
2004.01.12
申请人
HYNIX SEMICONDUCTOR INC.
发明人
HWANG, SANG SOON
分类号
H01L21/28;(IPC1-7):H01L21/28
主分类号
H01L21/28
代理机构
代理人
主权项
地址
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