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发明名称 METHOD FOR FORMING A PHOTORESIST PATTERN IN A SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR20050073694(A) 申请公布日期 2005.07.18
申请号 KR20040001536 申请日期 2004.01.09
申请人 HYNIX SEMICONDUCTOR INC. 发明人 YOU, TAE JUN
分类号 H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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