发明名称 CVD用气化器、溶液气化式CVD装置及CVD用气化方法
摘要 〔课题〕本发明提供一种CVD用气化器、溶液气化式CVD装置以及CVD用气化方法,能够抑制溶液配管等的阻塞而长时间连续的使用。〔解决手段〕本发明之CVD用气化器,包括复数个原料溶液用配管1、2,以相互隔离的方式供给复数个原料溶液;一载气用配管3,以包覆着上述复数个原料溶液用配管1、2的方式设置着,并且用来使加压的载气分别在上述复数个原料溶液用配管1、2各自的外侧流动;一细孔,设置于上述载气用配管3的前端,由上述原料溶液用配管1、2的前端被隔开;一气化管13,连接上述载气用配管3的前端,并且藉由上述细孔,连系着该载气用配管3的内部;一洗净机构,用来洗净该载气用配管3的前端、该细孔以及该气化管13之中至少一者;以及一加热装置(加热器),用来加热上述气化管13。
申请公布号 TW200524046 申请公布日期 2005.07.16
申请号 TW093140494 申请日期 2004.12.24
申请人 优特克股份有限公司;矢元久良 发明人 矢元久良
分类号 H01L21/31 主分类号 H01L21/31
代理机构 代理人 洪澄文
主权项
地址 日本