| 摘要 |
本发明之目的在改善成膜工程之生产率，并以低成本生产良质之薄膜。依本发明之成膜装置，具备：成膜室8；原料气体供给配管2将原料气体供给至该成膜室8；反应性气体供给配管1，将反应性气体供给至该成膜室8；吹扫气体供给配管3，供给将该原料气体及反应性气体进行吹扫之吹扫气体；藉由将该原料气体之供给或反应性气体之供给与吹扫交互进行之方式，在该成膜室8内、于基板上形成薄膜。另具备：原料气体中间配管22，设置于该原料气体供给配管2之一部分或全部，具有一定容积，当未供给该原料气体时，可将该原料气体封入；及／或反应性气体中间配管12，设置于该反应性气体供给配管之一部分或全部，具有一定容积，当未供给该反应性气体时，可将该反应性气体封入。 |
