半导体元件制造系统及其热力补偿次系统及其修正一制程温度曲线与一目标温度曲线间差値之方法

摘要

一种半导体元件制造系统，包括一制程腔室、一温度控制次系统以及一热力补偿次系统，其中温度控制次系统具有一制程次系统加热元件藉以产生一制程温度曲线。上述热力补偿次系统包括一温度感测器、一补偿热力控制单元以及一补偿加热元件，其中温度感测器用以侦测制程腔室温度曲线，而补偿热力控制单元用以计算制程温度曲线与一目标温度曲线间之差值，补偿加热元件则根据上述补偿热力控制单元所得之温度差值，而改变制程温度曲线。