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发明名称
根据特征分解之光学近似修正模型
摘要
本发明所揭示之模型OPC系基于期望由一光罩图案在一抗蚀剂表面上产生之空中影像之特征分解而开发的。以该特征分解方法可在模型中精确地描述点(x,y)周围之空中影像强度分布。于该特征分解模型中可使用一标量方法,该方法将穿过该光罩之光波视为标量。或者,一特征分解可使用一向量方法,该方法利用一向量描述光波及光瞳函数。可自该空中影像产生一预测之SPIF,其可用于藉由比较预测之SPIF与试验判定之SPIF而验证光罩模型化过程。模型OPC一经校正则可用于评估光罩之效能并改进该光罩之特征。
申请公布号
TW200523524
申请公布日期
2005.07.16
申请号
TW093133923
申请日期
2004.11.05
申请人
ASML遮盖器具公司
发明人
金龙 辛;罗柏特 索加;汤玛斯 赖迪;珍富 陈;道格拉斯 凡 丹 柏克
分类号
G01B9/02;G03F7/20
主分类号
G01B9/02
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
荷兰
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