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Un método de moldeo de una película fina sobre la superficie de un substrato, que comprende: a. Disposición sobre el elemento ventana (2) de un sistema de molde de microrreacción, dicho sistema de molde de microrreacción comprende i. un elemento ventana (2) que comprende un material transparente por lo menos a una longitud de onda de una radiación electro-magnética, teniendo además el elemento ventana una superficie superior que forma el fondo, de por lo menos una cavidad del molde, teniendo la cavidad una profundidad entre 100 nm y 100 m; ii. por lo menos un lado de la cavidad del molde (4); y iii.una tapa que comprende un substrato; una composición de hidrogel solidificable, que contiene monómeros polimerizables y un compuesto iniciador de la polimerización, en donde el com- puesto iniciador de la polimerización es sensible a una energía de activación a la cual es transparente el elemento ventana; b. Colocación de la superficie del substrato en contacto hermético con los lados de la cavidad del molde para formar la tapa del sistema del molde de microrreacción; c. Exposición del molde de microrreacción a una fuente de energía de activación, en donde la cavidad del molde se expone a la energía de activación trans-mitida a través del elemento ventana, con un nivel de energía suficiente para iniciar la polime-rización de los monómeros durante entre 2 y 2000 segundos; y d. Separación del molde del substrato, para dejar al descubierto la película moldeada en la superficie del substrato.
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