发明名称 等离子体表面处理方法及设备
摘要 本发明不需要喷射空气等而能够增加激发态物质向工件表面辐射的数量和面积,能够均匀地辐射整个表面,并能够减少有效激发态物质的损失,借此能够显著改善处理性能和处理效率。在如下的方法中,其中向一对相对的放电电极1,1施加脉冲电压从而在尖端1a,1a之间产生电晕放电,并通过电晕放电产生含有等离子体的激发态物质,借此进行表面处理,通过由永磁体4、磁元件5和极件6构成的磁场形成装置在放电电极1,1的尖端1a,1a附近形成磁场,并通过洛仑兹力向工件W的表面Wf辐射激发态物质,其中洛仑兹力作为带电粒子在磁场中运动的推动力,借此进行表面处理。
申请公布号 CN1640211A 申请公布日期 2005.07.13
申请号 CN03804805.1 申请日期 2003.09.04
申请人 巴尔工业公司;藤沢药品工业株式会社 发明人 佐伯登
分类号 H05H1/24;H01L21/3065;C08J7/00;B01J19/08 主分类号 H05H1/24
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 秦晨
主权项 1.一种等离子体表面处理方法,其中向一对相对的放电电极施加脉冲电压从而在所述放电电极的尖端之间产生电晕放电,并用通过电晕放电产生的含有等离子体的激发态物质辐射工件表面,借此处理所述表面,其中在所述放电电极对的所述尖端附近形成磁场,在该处存在等离子体态的带电粒子,并通过一种力使含有等离子体的激发态物质向所述工件的所述表面辐射,该力作为在磁场中运动的带电粒子上的推动力。
地址 日本大阪府