| 发明名称 | 曝光装置和器件制造方法 | ||
| 摘要 | 一种曝光装置，具有把标线片的图案投影到衬底上的投影光学系统，并经由填充在所述投影光学系统的配置在最靠近所述衬底一侧的光学元件和所述衬底之间的液体而把所述衬底曝光，其特征在于包括：用来自光源的光照明所述标线片的照明光学系统；以及通过调整所述光学元件的温度，调整所述液体的温度的温度调整装置。 | ||
| 申请公布号 | CN1637610A | 申请公布日期 | 2005.07.13 |
| 申请号 | CN200410081750.2 | 申请日期 | 2004.12.28 |
| 申请人 | 佳能株式会社 | 发明人 | 時田俊伸 |
| 分类号 | G03F7/20;H01L21/00 | 主分类号 | G03F7/20 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 许海兰 |
| 主权项 | 1.一种曝光装置，具有把标线片的图案投影到衬底上的投影光学系统，并经由填充在所述投影光学系统的配置在最靠近所述衬底一侧的光学元件和所述衬底之间的液体而把所述衬底曝光，其特征在于包括：用来自光源的光照明所述标线片的照明光学系统；以及通过调整所述光学元件的温度，调整所述液体的温度的温度调整装置。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||