发明名称 | 掩模和使用该掩模制造液晶显示器件的方法 | ||
摘要 | 本发明公开了一种器件的制造方法。所述方法包括:提供一基板;在所述基板上形成薄膜;在所述薄膜上形成光刻胶层;通过具有透射区域,半透射区域,衍射区域和遮断区域的光掩模将光照射到所述光刻胶层上,并将所述光刻胶层显影,以形成具有至少三个不同厚度的光刻胶图案。使用上述工序,可以利用三轮光掩模来制造例如液晶显示器件(LCD)。 | ||
申请公布号 | CN1637593A | 申请公布日期 | 2005.07.13 |
申请号 | CN200410102780.7 | 申请日期 | 2004.12.27 |
申请人 | LG.菲利浦LCD株式会社 | 发明人 | 苏在文 |
分类号 | G03F1/00;G03F7/20;H01L21/00;G02F1/133 | 主分类号 | G03F1/00 |
代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人 | 徐金国;梁挥 |
主权项 | 1.一种掩模,包括:透明基板;在所述基板上的光学吸收层;和在所述基板上的金属图案,所述金属图案包括多个狭缝。 | ||
地址 | 韩国汉城 |