发明名称 掩模和使用该掩模制造液晶显示器件的方法
摘要 本发明公开了一种器件的制造方法。所述方法包括:提供一基板;在所述基板上形成薄膜;在所述薄膜上形成光刻胶层;通过具有透射区域,半透射区域,衍射区域和遮断区域的光掩模将光照射到所述光刻胶层上,并将所述光刻胶层显影,以形成具有至少三个不同厚度的光刻胶图案。使用上述工序,可以利用三轮光掩模来制造例如液晶显示器件(LCD)。
申请公布号 CN1637593A 申请公布日期 2005.07.13
申请号 CN200410102780.7 申请日期 2004.12.27
申请人 LG.菲利浦LCD株式会社 发明人 苏在文
分类号 G03F1/00;G03F7/20;H01L21/00;G02F1/133 主分类号 G03F1/00
代理机构 北京律诚同业知识产权代理有限公司 代理人 徐金国;梁挥
主权项 1.一种掩模,包括:透明基板;在所述基板上的光学吸收层;和在所述基板上的金属图案,所述金属图案包括多个狭缝。
地址 韩国汉城