发明名称 | 半导体发光元件及其制造方法 | ||
摘要 | 本发明是关于一种半导体发光元件及其制造方法,在窗层(15)和保护层(20)之间提供有光线透射层(19),光线透射层(19)具有在窗层(15)和保护层(20)的折射指数之间的一折射指数。光线透射层(19)的折射指数n<SUB>2</SUB>,例如在窗层(15)和保护层(20)的折射指数的几何平均值的±20%范围之内。光线透射层(19)的厚度满足{(λ/4n<SUB>2</SUB>)×(2m+1)-(λ/8n<SUB>2</SUB>)}≤T≤{(λ/4n<SUB>2</SUB>)×(2m+1)+(λ/8n<SUB>2</SUB>)},其中λ表示所发出的光的波长,m表示不小于0的正整数。 | ||
申请公布号 | CN1638156A | 申请公布日期 | 2005.07.13 |
申请号 | CN200410061585.4 | 申请日期 | 2004.12.27 |
申请人 | 三垦电气株式会社 | 发明人 | 室伏仁;武田四郎 |
分类号 | H01L33/00;H01S5/00 | 主分类号 | H01L33/00 |
代理机构 | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 寿宁;张华辉 |
主权项 | 1、一种半导体发光元件,其特征在于其包括:半导体层(16),形成光学窗;第一光线透射层(19),形成于上述的半导体层(16)之上;及第二光线透射层(20),形成于上述的第一光线透射层(19)之上,其中上述的第一光线透射层(19)的折射指数n2在不小于((n1×n3)1/2×0.8}且不大于{(n1×n3)1/2×1.2}的范围之内,其中,n1表示上述的半导体层(16)的折射指数,n3表示上述的第二光线透射层(20)的折射指数,且上述的第一光线透射层(19)的厚度在不小于{(λ/4n2)×(2m+1)-(λ/8n2)}且不大于{(λ/4n2)×(2m+1)+(λ/8n2)}的范围之内,其中,λ表示所发出的光的波长,m表示不小于0的正整数。 | ||
地址 | 日本埼玉县 |