| 发明名称 | 用于制造漫射体的复合掩模 | ||
| 摘要 | 本发明涉及替代性的复合掩模，其基本上由一个涂覆有一种透明聚合物基体的透明载体膜构成，该聚合物基体含有平均粒度d<SUB>50</SUB>为0.5至10微米的吸光颜料粒子或金属粒子。 | ||
| 申请公布号 | CN1639590A | 申请公布日期 | 2005.07.13 |
| 申请号 | CN02823480.4 | 申请日期 | 2002.12.06 |
| 申请人 | 科莱恩有限公司 | 发明人 | 原田隆正;北文雄;A·奇默曼;A·阿尔瑟尔;M·曼尼格;P·W·奥利维拉;H·施密特 |
| 分类号 | G02B5/00;G02B5/02;G02B26/00;G02B3/00;C08K3/00;C08K3/04;C08K3/08;C08K3/22;C08K5/00 | 主分类号 | G02B5/00 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 刘明海 |
| 主权项 | 1.一种复合掩模，其基本上由一个涂覆有一种透明聚合物基体的透明载体膜构成，其中该聚合物基体含有平均粒度d50为0.5至10微米的吸光颜料粒子或金属粒子。 | ||
| 地址 | 德国美因河畔法兰克福 | ||