| 发明名称 | 缓释制剂及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种能够长时间释放药理活性物质的缓释制剂及其制造方法。在将低熔点物质及药理活性物质熔融造粒得到的粒子表面熔融涂覆(1)水不溶性高分子物质的微粉或(2)水不溶性高分子物质与选自滑石粉、硬脂酸镁及氧化钛中的至少1种的微粉，由此制造本发明的缓释制剂。 | ||
| 申请公布号 | CN1638742A | 申请公布日期 | 2005.07.13 |
| 申请号 | CN03804387.4 | 申请日期 | 2003.02.20 |
| 申请人 | 大塚制药株式会社 | 发明人 | 友平裕三 |
| 分类号 | A61K9/22;A61K47/04;A61K47/12 | 主分类号 | A61K9/22 |
| 代理机构 | 北京市金杜律师事务所 | 代理人 | 杨宏军 |
| 主权项 | 1、一种缓释制剂，是在将低熔点物质及药理活性物质熔融造粒得到的粒子表面熔融涂覆(1)水不溶性高分子物质的微粉或(2)水不溶性高分子物质与选自滑石粉、硬脂酸镁及氧化钛中的至少1种微粉而得到的。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||