发明名称 |
基片偏斜消除系统和方法 |
摘要 |
通过使用第一基片供给部件和第二基片供给部件中的至少一个来消除基片偏斜的系统和方法,其将基片供给到一个腔室,该腔室接收供给自第一基片供给部件和第二基片供给部件的纸张。 |
申请公布号 |
CN1637640A |
申请公布日期 |
2005.07.13 |
申请号 |
CN200410102086.5 |
申请日期 |
2004.12.22 |
申请人 |
施乐公司 |
发明人 |
J·W·雅各布斯;T·R·埃尼;N·E·胡尔特 |
分类号 |
G03G15/00;G03G21/14;B65H7/00 |
主分类号 |
G03G15/00 |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
崔幼平 |
主权项 |
1、一种用于消除基片的偏斜的偏斜消除系统,其包括:第一基片供给部件,其从第一方向供给基片;第二基片供给部件,其从第二方向供给基片;基片接收部件,其从第一基片供给部件和第二基片供给部件接收该基片;腔室,其位于第一基片供给部件和第二基片供给部件的下游且位于该基片接收部件的上游,该腔室包括第一壁和与第一壁相对的第二壁;控制器,其控制第一基片供给部件、第二基片供给部件和基片接收部件的驱动特性,其中,当基片在基片接收部件停止时从第一基片供给部件供给到基片接收部件时,该基片移动到该腔室的第一壁;当基片在基片接收部件停止时从第二基片供给部件供给到基片接收部件时,该基片移动到该腔室的第二壁。 |
地址 |
美国康涅狄格州 |