| 发明名称 | 激光掩模及使用它的结晶方法 | ||
| 摘要 | 一种采用掩模的结晶方法，包括提供一个具有半导体层的基板；将一个掩模定位在基板上面，该掩模具有第一，第二和第三块，每一块具有包括多个透射区和一个遮挡区的周期性图形，第一块的周期性图形具有第一位置，第二块的周期性图形具有第二位置，第三块的周期性图形具有第三位置，第一，第二和第三位置彼此不同；并且通过掩模用激光束照射半导体层使其结晶。 | ||
| 申请公布号 | CN1637483A | 申请公布日期 | 2005.07.13 |
| 申请号 | CN200410091185.8 | 申请日期 | 2004.11.23 |
| 申请人 | LG.菲利浦LCD株式会社 | 发明人 | 俞载成 |
| 分类号 | G02F1/133;G02F1/136;H01L29/786 | 主分类号 | G02F1/133 |
| 代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人 | 祁建国;徐金国 |
| 主权项 | 1.一种激光掩模，具有第一，第二和第三块，每一块具有包括多个透射区和一个遮挡区的周期性图形，第一块的周期性图形具有第一位置，第二块的周期性图形具有第二位置，第三块的周期性图形具有第三位置，第一，第二和第三位置彼此不同。 | ||
| 地址 | 韩国汉城 | ||