可调谐的多区气体喷射系统

摘要

一种可调谐的多区喷射系统，用于一个等离子处理系统以便用等离子处理各个基片(13)，比如各个半导体晶片。系统包括一个等离子处理室(10)，一个基片支承(16)用于支承一个基片在处理室内，一个介电元件(20)具有一个内表面对着基片支承，介电元件形成处理室的一个壁，一个气体喷射器(22)固定至一部分或可移动地安装在介电窗口的一个开口内。气体喷射器包括多个气体出口，以可调节的流动率供给处理气体至处理室的多个区域，以及一个RF能源(19)，比如一个平面或非平面的螺旋线圈(18)，它通过介电元件与RF能源感应地耦合以及进入处理室以激励处理气体进入一个等离子状态。喷射器能够具有一个轴线上出口，以第一流动率供给处理气体至一个中心区，以及轴线外出口以一个第二流动率供给相同的处理气体至围绕中心区的一个环形区。这种排列允许改变气体的传送以满足特定的处理制度的需要，它借助允许独立地调节至处理室的多个区的气体流动。此外，与可消耗的莲蓬头排列比较，一个可移动安装的喷射器能够更容易地和更经济地更换。

主权项

1.一种等离子处理系统，包括：一个等离子处理室；一个真空泵，连接至处理室；一个基片支承，在其上面一个基片在处理室内处理；一个介电元件，其内表面对着基片支承，其中介电元件形成处理室的一个壁；一个气体喷射器，延伸通过介电元件，这样使气体喷射器的末端暴露在处理室内，气体喷射器包括多个气体出口，以各种流动率供给处理气体，该流动率在进入处理室的至少某些出口之间独立地改变；以及一个RF能源，通过介电元件将RF能量感应地耦合并进入处理室，以激励处理气体进入一个等离子状态以处理基片。