用于多靶溅射的方法和装置

摘要

不同材料在工件上的顺序溅射薄膜沉积使用放置在公共阴极/热沉的单独面积部分上的、包括这些不同材料的不连续靶获得。沉积薄膜的无交叉污染的溅射在靶和工件之间的相对运动的间隔期间或者在分度静态相对放置中被允许，其中工件投影完全接近一个这种部分以沉积相应的层。

主权项

1.在工件上溅射沉积一系列均匀层的方法，不同物质的所述层相邻，所述方法在外壳内执行，包括步骤：(a)在靶衬底的第一部分上准备第一可溅射物质，并且在所述靶衬底的第二部分上准备第二可溅射物质，(b)在所述靶衬底的一个所选择的所述部分基本上附近放置所述工件，(c)将惰性气体引入到所述外壳中，并且在所述外壳中产生电等离子体放电以提供用于从所述靶溅射的离子源，(d)施加磁场以限制所述等离子体放电，施加偏电势到所述靶部分并且插入一个孔径以使得来自入射在所述靶上的所述等离子体的离子局限于所述靶的所述所选择的部分，并且在所述工件上溅射沉积所述一个所选择的部分的所述物质，(e)在所述靶衬底的另一个所选择的所述部分的基本上附近放置所述工件。