移动用于浸液光刻的透镜的方法和装置

摘要

一种用于浸液光刻的装置，具有能够与在液体环境中的半导体晶片的水平运动同步地相对运动的透镜，在该液体环境中透镜装置和半导体晶片的同步运动有利于降低与液体环境相关联的湍流和气泡。所述透镜和半导体晶片的相对运动当扫描处理发生时实质上是相同的，这导致最佳图像分辨率，并且具有液体环境的最小气泡、湍流和破坏。

主权项

1.一种能够投射光的装置，包括：框；被布置在所述框内的透镜系统；水平支撑表面，与能够支撑半导体晶片的所述框一般地相关联；在所述透镜系统中的末级透镜元件，位于靠近所述框的第一端，所述末级透镜元件具有末级透镜元件表面，所述末级透镜元件表面能够被定位接近所述半导体晶片；以及光源，位于接近所述框的第二端，所述光源能够通过所述透镜系统传输光；其中所述末级透镜元件能够相对于所述框移动。