发明名称 |
导电膜及其制造方法以及具有该导电膜的基材 |
摘要 |
本发明提供一种使导电性提高、抑制导电性经时降低、反射率和耐磨损性不减弱并且兼具低反射机能的低反射导电膜及着色低反射导电膜及其制造方法和具有上述膜的基材。上述低反射导电膜至少由含导电性微粒的导电膜和形成在上述导电膜上的、折射率低于上述导电膜的低折射率膜2层膜构成,在上述导电膜中含有降电阻材料。上述低反射导电膜的制造方法是通过在基体上涂布含导电性微粒的导电膜形成用涂布液,其后再涂布含降电阻材料的低折射率膜形成用涂布液来形成低反射导电膜的方法。 |
申请公布号 |
CN1639807A |
申请公布日期 |
2005.07.13 |
申请号 |
CN02823880.X |
申请日期 |
2002.12.04 |
申请人 |
旭硝子株式会社 |
发明人 |
猪熊久夫;阿部启介;真田恭宏 |
分类号 |
H01B5/14;H01B13/00;B32B7/02;B05D5/12;H01J9/20;H01J29/88 |
主分类号 |
H01B5/14 |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 |
代理人 |
胡烨 |
主权项 |
1.一种低反射导电膜,它至少由含导电性微粒的导电膜和形成在上述导电膜上的、折射率低于上述导电膜的低折射率膜构成,其特征在于,上述导电膜中含有降电阻材料。 |
地址 |
日本东京 |