| 发明名称 | 清洁光学表面的方法和装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种利用UV射线在清洁气体中对射束导向透镜的表面进行去污的方法和装置。按照本发明，所用的UV射线的波长在强吸收氧的区域，清洁气体中的氧浓度低于空气中的氧浓度。 | ||
| 申请公布号 | CN1638883A | 申请公布日期 | 2005.07.13 |
| 申请号 | CN03805657.7 | 申请日期 | 2003.03.11 |
| 申请人 | 卡尔蔡司SMT股份公司 | 发明人 | J·吕德克;C·查策克;A·帕茨迪斯;J·乌尔曼;A·米尔普福尔德特;M·蒂尔;S·维斯纳 |
| 分类号 | B08B7/00 | 主分类号 | B08B7/00 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 刘维升;马崇德 |
| 主权项 | 1.一种对射束导向镜片的表面，特别是微光刻投影曝光仪的光学部件的表面进行去污的方法，其中-在一种清洁气体中用UV射线对待清洁的表面进行辐照，其特征在于：-作为UV清洁射线，选择其波长位于强吸收氧的区域，作为清洁气体，选择其氧浓度小于空气中的氧浓度。 | ||
| 地址 | 德国上科亨 | ||