花纹工艺中的全移相掩模

摘要

全移相掩模(FPSM)有利于在难蚀刻金属的花纹工艺中使用。因FPSM能配用正性光刻胶，故原始布局上的特征可用FPSM布局上的移相器取代。相邻移相器为反相，如0度与180度。在一实施例中，暗场微调掩模可与FPSM联用，该微调掩模包括的切口对应于FPSM上的切口，而FPSM上的切口可解决贴近移相器间的相位冲突。在一场合中，曝光FPSM上两贴近的移相器，微调掩模上的对应切口在金属层内形成一特征。FPSM和/或微调掩模包括进一步改善印刷分辨度的贴近性校正。

主权项

1.一种在集成电路里形成金属层图案的掩模组，所述掩模组用于花纹工艺，其特征在于，所述掩模组包括：包括多个移相器的全移相掩模(FPSM)，其中移相器代表金属层内的几乎所有特征；和包括至少第一切口的暗场微调掩模，第一切口对应于FPSM上的第二切口，第二切口解决FPSM上的相位冲突。